四氟化硅、高纯氟硅酸及硅烷技术
- 分类:含氟电子化学品技术
- 作者:
- 来源:
- 发布时间:2022-05-09
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【概要描述】以工业级氟硅酸为原料,经过合成、过滤、热解工序获得四氟化硅粗品,经过精制后获得高纯四氟化硅气体。
四氟化硅、高纯氟硅酸及硅烷技术
【概要描述】以工业级氟硅酸为原料,经过合成、过滤、热解工序获得四氟化硅粗品,经过精制后获得高纯四氟化硅气体。
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1、工艺技术介绍
以工业级氟硅酸为原料,经过合成、过滤、热解工序获得四氟化硅粗品,经过精制后获得高纯四氟化硅气体。
高纯四氟化硅气体经超纯水吸收获得高纯氟硅酸。
高纯四氟化硅采用氢化铝钠法制得硅烷。
2、技术优势
(1)装置占地小,技术成熟可靠,设备投资小,成本低于其他技术路线。
(2)原料来源广泛,且可与我公司的废酸综合利用技术联产。
3、工艺流程图
4、产品指标
表1 电子工业用气体 四氟化硅(GB/T31058-2014)
项 目 |
指 标 |
|
四氟化硅纯度(体积分数)/10-2≥ |
99.99 |
99.999 |
氢(H2)含量(体积分数)/10-6< |
2 |
1 |
(氧+氩)(O2+Ar)含量(体积分数)/10-6< |
20 |
0.5 |
氮(N2)含量(体积分数)/10-6< |
60 |
4 |
一氧化碳(CO)含量(体积分数)/10-6< |
5 |
0.1 |
二氧化碳(CO2)含量(体积分数)/10-6< |
15 |
0.3 |
甲烷(CH4)含量(体积分数)/10-6< |
10 |
1 |
硫化氢(H2S)含量a(体积分数)/10-6< |
1 |
0.1 |
二氧化硫(SO2)含量a(体积分数)/10-6< |
1 |
0.1 |
总杂质含量 |
100 |
10 |
六氟二甲基硅醚 |
供需双方商定 |
供需双方商定 |
As、B、P |
供需双方商定 |
供需双方商定 |
颗粒 |
供需双方商定 |
供需双方商定 |
a适用于萤石硫酸法制备的产品。 |
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无
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