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四氟化硅、高纯氟硅酸及硅烷技术

【概要描述】以工业级氟硅酸为原料,经过合成、过滤、热解工序获得四氟化硅粗品,经过精制后获得高纯四氟化硅气体。

四氟化硅、高纯氟硅酸及硅烷技术

【概要描述】以工业级氟硅酸为原料,经过合成、过滤、热解工序获得四氟化硅粗品,经过精制后获得高纯四氟化硅气体。

  1、工艺技术介绍

  以工业级氟硅酸为原料,经过合成、过滤、热解工序获得四氟化硅粗品,经过精制后获得高纯四氟化硅气体。

  高纯四氟化硅气体经超纯水吸收获得高纯氟硅酸。

  高纯四氟化硅采用氢化铝钠法制得硅烷。

  2、技术优势

  (1)装置占地小,技术成熟可靠,设备投资小,成本低于其他技术路线。

  (2)原料来源广泛,且可与我公司的废酸综合利用技术联产。

  3、工艺流程图

3-9  4、产品指标

  表1 电子工业用气体 四氟化硅(GB/T31058-2014)

项 目

指 标

四氟化硅纯度(体积分数)/10-2

99.99

99.999

氢(H2)含量(体积分数)/10-6

2

1

(氧+氩)(O2+Ar)含量(体积分数)/10-6

20

0.5

氮(N2)含量(体积分数)/10-6

60

4

一氧化碳(CO)含量(体积分数)/10-6

5

0.1

二氧化碳(CO2)含量(体积分数)/10-6

15

0.3

甲烷(CH4)含量(体积分数)/10-6

10

1

硫化氢(H2S)含量a(体积分数)/10-6

1

0.1

二氧化硫(SO2)含量a(体积分数)/10-6

1

0.1

总杂质含量

100

10

六氟二甲基硅醚

供需双方商定

供需双方商定

As、B、P

供需双方商定

供需双方商定

颗粒

供需双方商定

供需双方商定

a适用于萤石硫酸法制备的产品。

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